Dry Etch

본문

위・아래 삭제 복제 복제전송 텍스트기본스타일
    • 선색
    • 실선
    • 점선
    • all
    • top
    • right
    • bottom
    • left
    • 0px
    • 1px
    • 2px
    • 3px
    • 4px
    • 5px
    • all
    • top
    • right
    • bottom
    • left
    • 0px
    • 5px
    • 10px
    • 15px
    • 20px
    • 25px
    • 30px
    • 35px
    • 40px
    • all
    • top
    • bottom
    • 0px
    • 5px
    • 10px
    • 15px
    • 20px
    • 25px
    • 30px
    • 35px
    • 40px
    • 4px
    • 8px
    • 10px
    • 12px
    • 16px
    • 20px
    • 30px
    • 1.3em
    • 1.5em
    • 2em
    • 2.2em
    • 2.5em
    • 3em
  HIgh Density Plasma
       
위・아래 삭제 복제 복제전송 텍스트기본스타일
  • 행수 :
    열수 :
    타입 :
    • 선색
    • 실선
    • 점선
    • all
    • top
    • right
    • bottom
    • left
    • 0px
    • 1px
    • 2px
    • 3px
    • 4px
    • 5px
    • all
    • top
    • right
    • bottom
    • left
    • 0px
    • 5px
    • 10px
    • 15px
    • 20px
    • 25px
    • 30px
    • 35px
    • 40px
    • all
    • top
    • bottom
    • 0px
    • 5px
    • 10px
    • 15px
    • 20px
    • 25px
    • 30px
    • 35px
    • 40px
    • 4px
    • 8px
    • 10px
    • 12px
    • 16px
    • 20px
    • 30px
    • 1.3em
    • 1.5em
    • 2em
    • 2.2em
    • 2.5em
    • 3em

Type

Products

Batch

High Density Plasma Etching System for Magnetic Materials(Etcher-100M)

(ref1), (ref2), (ref3), (ref4), (ref5), (ref6), (ref7), (ref8), (ref9), (ref10), (ref11), (ref12), (ref13), (ref14), (ref16)   

ICP-RIE System for Nano-Patterning(Etch-200)
(ref1), (ref2), (ref3), (ref4), (ref5), (ref6), (ref7), (ref8), (ref9), (ref10), (ref11)    

Cluster

High Density Plasma Etching System for Waveguides(Cluster Etch-300)